Duilleag lìnigeadh cùl-taic aodach

Stuthan amh: Faodar fluororesins leithid PTFE / PFA / ECTFE / PVDF a thaghadh mar an stuth uachdar a rèir feartan meadhanach, le aodach snàithleach glainne àrd-neart mar chùl-taic (air atharrachadh gu diofar àrainneachdan teòthachd / creimeadh), a’ toirt gu buil dealbhadh gnàthaichte “aon stuth airson ioma-chleachdadh”.
Pròiseas: Tha RANA an urra ri bùth-obrach glan ìre 9,000 ㎡ PPT / PPB / PPM - ìre glan agus a’ gabhail ri pròiseas “ioma-mhodh teth-press" (teòthachd agus cuideam air atharrachadh gu dinamach a rèir seòrsa roisinn) gus dèanamh cinnteach gu bheil ceangal mionaideach de dhiofar resins agus aodach.

Bunaiteach: Tro dhealbhadh buaidh dà-- de “resistant creimeadh resin + daingneachadh aodaich”, bidh an duilleag lìnidh a’ cothlamadh dìon ceimigeach agus neart meacanaigeach, agus faodar a ghnàthachadh airson strì an aghaidh teòthachd (-200 ceum gu 300 ceum), an aghaidh creimeadh (searbhag / alcali / solvent), agus strì an aghaidh na sìde (UV / taiseachd-teas) a rèir feumalachdan teachdaiche.
Buannachdan: Mar bhall de Chomann Gnìomhachas Semiconductor Shìona, chaidh an toradh a dhearbhadh le SMIC, le susbaint ian meatailt a’ ruighinn ìre ppt às deidh dha ceimigean ìre dealanach a stòradh, ag atharrachadh a rèir feumalachdan semiconductor, cungaidh-leigheis, lùth ùr agus raointean eile. A’ cumail còrr air 20 peutant innleachdach agus a’ toirt taic do ghnàthachadh meud neo-àbhaisteach.

Suidheachaidhean tagraidh: A’ còmhdach uidheamachd fìor-ghlan semiconductor àrd (me, tancaichean stòraidh photoresist), coireachan ath-bhualadh cungaidh-leigheis (me, synthesis eadar-mheadhanach cephalosporin), agus stuthan bataraidh lùth ùr (me, tancaichean stòraidh electrolyte). Tha e air seirbheis a thoirt do dh’ iomairtean leithid BASF agus AUECC (USA), a’ cuideachadh luchd-ceannach a bhith a’ togail fhuasglaidhean làn-chreimeadh an t-suidheachaidh.

Teachdaichean teth: duilleag lìnigeadh aodach, luchd-saothrachaidh duilleag lìnidh taic aodach Sìona, solaraichean, factaraidh